解析匀胶机选购巧

该设备主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种作方式。

送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100—9900转/分（±10转/分），起动加速度可调。每道程序的持续时间，转速、加速度、烘烤温度、烘烤时间、预烘时间等艺参数均可通过编程控制。

匀胶机有个或多个滴胶系统，可涂不同品种的光刻胶。滴胶的方式有晶片静止或旋转滴胶。随着晶片尺寸的增大，出现了多点滴胶或胶口移动式滴胶。胶膜厚度般在500—1000nm，同晶片和片与片间的误差小于±5nm。滴胶泵有波纹管式和薄膜式两种，并有流量计行恒量控制。对涂过胶的晶片有上下刮边能，去掉晶片正反面多余的光刻胶。

烘烤位，有隧道式远红外加热，微波快速加热以及电阻加热的热板炉等。涂胶后的晶片要按定的升温速率行烘干。烘烤过程在密封的炉子中行，通过抽真空排除挥发出来的有害物质。前烘结束后，将晶片送入收片盒内。

主轴转速的稳定性和重复性是决定胶膜厚度均匀性和致性的关键，起动加速度的大小是决定是否能将不同粘稠度的光刻胶甩开并使胶均匀的决定因素。

近年来的发展趋势是在自动作方式的匀胶机中加入预涂增粘剂（HMDS）的冷板和热板艺模块，以增强光刻胶和晶片的附着力。为了提生产率，外已经研制出多种艺模块意组合的积木式结构，有的还带有胶膜自动测量和监控装置。生产厂家有我的西北机器厂，美的Solitec、SVG、GCA和EATON等公司。

2选购巧

从其原理来说，可以看出选购匀胶机需要注意的几个细节

旋转速度

转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大，对于要求*涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。产的某些匀胶机只能提供转速范围，并不能标定实时的转速。口的匀胶机虽然大分能标定转速，但是大分转速精度没有际标准认定。建议购买转速控制方面有际认定标准的，比如：美NIST标准等。

真空吸附系统的构

真空泵定要无油的，压力标定准确，内生产的无油真空泵实在不敢恭维。因为何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，会导致基片吸附不住而产生“飞片”的情况，还会让滴胶液不慎入真空管道系统成堵塞。用过产匀胶机的客户常常会关心怎么清洗的问题，这点许多外的匀胶机做得不错，他们有通过联动机制，如果真空吸附力不够的时候，不会开始旋转。